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纹影系统

纹影仪可用来观察透明介质因各种因素引起的扰动的分布、传播过程以及扰动强度等。如研究激光与物质作用、分层流、多项流、传热与传质、激波、超声速流、燃烧、火焰、爆炸、高压放电、等离子体、内弹道及某些化学反应等学科的流场密度变化科学研究。

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照明设备:普通激光光源、LED光源、钨灯光源 

狭缝类型:单狭缝、多狭缝、小孔、色散棱镜或光栅、彩色圆孔或者方孔狭缝 

刀口类型:单刀口、双刀口、四刀口、栅格刀口、圆孔刀口等  

结构类型:积木式、筒式、平板式或者相关结构类型 

系统定制:根据不同的实验和现场情况,可提供定制的纹影解决方案

   





主镜参数

①材料为K9光学玻璃;

②应力≤1;

①镀真空铝反射膜,再镀一层二氧化硅保护膜层;

③反射系数≥94%;

④表面精度:主反射镜加工面型误差≤λ/20;

⑤基座材料:铸铁、铸铝、45#钢。


光源系统参数

①卤素灯光源,亮度连续可调,并配套光源聚光镜组;

②LED光源(含532红光镜头,630绿光镜头),并配套相应光源聚光镜组;

①光源系统支撑基座中心高度1200mm


狭缝系统参数

①双向对开调节

②狭缝系统支撑基座中心高度1200mm

③基座材料:铸铁、铸铝、45#钢。


刀口系统参数

①刀口系统包含黑白刀口和三色彩色刀口,并配套相应照相物镜组;

②刀口系统支撑基座中心高度1200mm

③基座材料:铸铁、铸铝、45#钢。


图像采集接口参数

①可实现高速摄像与相机同步采集,互不干扰;

②高速摄像的接口为C口,配合Plantom V2012使用;相机应与本项目所采购相机的接口配合。


平面反射镜

①材料:K9光学玻璃;

②应力≤1;

③镀真空铝反射膜,再镀一层二氧化硅保护膜层;

④反射系数≥94%;

⑤表面精度:主反射镜加工面型误差≤λ/20;

⑥平面支撑基座系统中心高度1200mm;

⑦基座材料:45#钢及铸铝材料、45#钢。



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